Volgens berichten in de buitenlandse media van 30 september onderzoekt het Japanse Ministerie van Economie, Handel en Industrie subsidies tot 190 miljard yen (ongeveer 9,3 miljard RMB) aan de Hiroshima-fabriek van halfgeleidergigant Micron Technology.
Micron zal de meest geavanceerde productieapparatuur "Extreme Ultraviolet (EUV) lithografieapparatuur" introduceren in zijn fabriek in Hiroshima, en is van plan om vanaf 2026 een nieuwe generatie DRAM (dynamisch willekeurig toegankelijk geheugen) in massa te produceren.
Japan heeft ook besloten om tot 476 miljard yen aan subsidies te verstrekken aan TSMC's Kumamoto-fabriek om de basis van de binnenlandse halfgeleiderindustrie te versterken.