De Amerikaanse minister van Handel Howard Lutnick uitte onlangs tijdens een reeks bijeenkomsten zijn bezorgdheid tegenover leidinggevenden van de Nederlandse lithografiegigant ASML en zei dat een extreem ultraviolet (EUV) lithografiemachine China zou kunnen binnenstromen. Als dit waar is, zou dit een ernstige schending van het huidige exportcontrolesysteem betekenen. ASML ontkende dit resoluut en zei dat het bedrijf nooit EUV-systemen aan China heeft geleverd, en dat het Amerikaanse ministerie van Handel het zogenaamde bewijsmateriaal niet publiekelijk aan de media of ASML heeft getoond.

Volgens Bloomberg beweerden functionarissen binnen de Amerikaanse regering bewijs te hebben dat ASML EUV-gerelateerde componenten en transportapparatuur naar China heeft verzonden. Desgevraagd produceerden ze echter geen specifiek materiaal en legden ze ook niet uit of de complete machine inderdaad in China was geland. ASML heeft duidelijk gemaakt dat de EUV-lithografiemachines die het bedrijf in de geschiedenis heeft geproduceerd allemaal strikt worden gevolgd en óf in handen van klanten zijn en hun status kan worden gemonitord, óf dat ze zijn gedemonteerd en gerecycled binnen ASML.

ASML, met het hoofdkantoor in Nederland, is misschien niet zo bekend bij het grote publiek, maar bij de bouw van de wereldwijde AI-computerinfrastructuur is het een van de meest kritische bedrijven, na NVIDIA en verschillende ultragrootschalige cloudleveranciers in de Verenigde Staten. Momenteel is ASML het enige bedrijf ter wereld dat EUV-lithografiemachines kan produceren. Deze apparatuur kan de meest geavanceerde chipcircuits op siliciumwafels snijden, waardoor TSMC geavanceerde processors in massa kan produceren voor bedrijven als Nvidia en Apple. Juist door dit technologiemonopolie is ASML uitgegroeid tot een van de meest waardevolle beursgenoteerde bedrijven in Europa. De marktwaarde schommelde onlangs rond de 700 miljard dollar. Het is het afgelopen jaar sterk gestegen, gedreven door de vraag naar AI-chips.

Hierdoor ligt de vraag “of EUV China binnenkomt” bijzonder gevoelig. Als er ook maar één EUV-systeem China binnenstroomt, zal dit worden beschouwd als een van de ernstigste mazen in het exportcontrolesysteem voor high-end chips en AI-computerkracht dat de Verenigde Staten de afgelopen jaren hebben opgebouwd, en dat rechtstreeks raakt aan de kern van de poging van Washington om de upgrade van de militaire en hightech industriële basis van Peking te beperken. Al tijdens de eerste termijn van Trump hebben de Verenigde Staten er bij de Nederlandse regering op aangedrongen de vergunning van ASML om EUV naar China te exporteren te weigeren. Sindsdien is de Chinese markt geblokkeerd voor deze technologische generatiedrempel.

ASML-topman Christophe Fouquet reageerde zes weken geleden in een interview frontaal op de ‘China-kwestie’. Hij zei dat het bedrijf een compleet volgsysteem heeft opgezet voor alle fabrieksapparatuur. Elke EUV draait op de productielijn van een geautoriseerde klant en bevindt zich in een controleerbare staat, of is teruggestuurd naar ASML en gedemonteerd. Daarnaast heeft ASML intern een ‘firewall’-systeem geïmplementeerd voor personeel dat wordt blootgesteld aan EUV-technologie: medewerkers die toegang hebben tot EUV-technologie, documenten en trainingsmateriaal zijn volledig geïsoleerd van medewerkers die geen toegang hebben tot relevante informatie, terwijl het Chinese team opzettelijk aan de andere kant van de ‘firewall’ is geplaatst om te voorkomen dat ze worden blootgesteld aan belangrijke technische details.

Furich benadrukte ook dat de reden waarom ASML erin slaagde een EUV-lithografiemachine te bouwen, gebaseerd is op de technologie die het bedrijf in de loop van tientallen jaren heeft verzameld: ongeveer 80% van de technologie van de hele machine is afgeleid van ervaringen uit het verleden. De werkelijk nieuwe moeilijkheid is het genereren van EUV-lichtbronnen, en dit probleem alleen al duurde ongeveer twintig jaar om te overwinnen. Volgens hem is het moeilijk om een ​​compleet EUV-systeem te reverse-engineeren zonder persoonlijk contact te hebben met de hele machine en alleen te vertrouwen op externe observaties of verspreide informatie. Dit is ook een van de kernlogica van zijn argument dat “China geen EUV kan creëren door van anderen te stelen.”

Naast technische en veiligheidsoverwegingen ontkende ASML ook haar motief om in het geheim EUV aan China te leveren op basis van commerciële belangen. Het bedrijf mag nog steeds diep-ultraviolette (DUV) lithografiemachines van de oudere generatie aan China verkopen. Deze apparatuur werd meer dan tien jaar geleden voor het eerst verzonden en vormt nog steeds een belangrijk onderdeel van de activiteiten van ASML in China. Volgens Furich handhaaft het bedrijf opzettelijk een generatiekloof: door gereedschappen te verkopen die één of twee generaties achterlopen, hebben Chinese klanten nog steeds zaken te doen, maar het is moeilijk om de meest geavanceerde niveaus ter wereld in te halen, waardoor de omzet behouden blijft en tegelijkertijd het risico op het cultiveren van toekomstige concurrenten wordt verkleind. ASML voorspelt dat ongeveer 20% van de omzet in 2026 afkomstig zal zijn uit de momenteel toegestane verkopen aan China. Als het land het risico loopt het EUV-exportverbod voor één enkele illegale transactie te overtreden, zal het niet alleen deze inkomsten in gevaar brengen, maar ook zijn status als een van de “meest winstgevende monopolies in Europa” doen wankelen.

De verklaring van ASML kan echter niet direct bewijzen dat de vermoedens van de Amerikaanse regering onjuist zijn, omdat deze laatste het zogenaamde bewijsmateriaal in haar handen nog niet openbaar heeft gemaakt. Voordat het bewijsmateriaal openbaar wordt gemaakt, is het voor de buitenwereld moeilijk om een ​​definitief oordeel te vellen, waardoor er ruimte overblijft voor politieke en commerciële interpretaties door alle partijen.

Het is vermeldenswaard dat het Amerikaanse ministerie van Handel, onder leiding van Lutnick, eind vorig jaar ermee instemde om tot 150 miljoen dollar aan overheidsfinanciering te verstrekken aan een startend bedrijf genaamd xLight, ter ondersteuning van de ontwikkeling van een nieuwe generatie lichtbrontechnologie. Algemeen wordt aangenomen dat deze technologie in theorie het monopolie van ASML op EUV-lichtbronnen fundamenteel kan aantasten. De CEO van xLight gaf echter eerder in een interview aan dat het bedrijf zich liever positioneert als toekomstige partner van ASML dan als directe concurrent. Het doel is om een ​​lichtbronmodule te creëren die kan worden ingebed in een ASML-lithografiemachine, in plaats van een complete machineoplossing die ASML volledig vervangt.

Toen de verslaggever dit 'partner'-standpunt aan Furich doorgaf, bleef hij beleefd, maar was hij het er niet helemaal mee eens. Volgens hem gelooft ASML niet dat het op de technologie van xLight hoeft te vertrouwen om de sector voor te blijven. Het bedrijf heeft voldoende vertrouwen in de continuïteit en voordelen van zijn eigen technologieroute. Dit heeft ook geleid tot speculaties van buitenaf: in de context waarin de Amerikaanse overheid zowel een ‘regulator’ is als een potentiële begunstigde van nieuwe technologieën door middel van investeringen, is het de vraag of de herziening van ASML door de overheid zal worden beïnvloed door industriële lay-out en belangenoverwegingen.

Naast xLight heeft Peter Thiel ook ingezet op een startup genaamd Substrate, in de hoop een doorbraak te maken in alternatieve EUV-technologie. Anders dan de positionering van xLight als ‘ASML-partner’, stelt Substrate duidelijk voor om een ​​oplossing te ontwikkelen die direct kan concurreren met de ASML-technologie, en heeft het de ambitie om een ​​van de potentiële alternatieven voor EUV te worden.

Tegen de achtergrond van geopolitieke spanningen wordt in het Amerikaanse Congres ook een tweeledig wetsvoorstel naar voren gebracht, waarvan de reikwijdte veel verder reikt dan de EUV. Het doel van het wetsvoorstel is om de export van geavanceerde productiemiddelen naar China op grotere schaal aan te scherpen, inclusief een effectief totaalverbod op ASML's export van alle DUV-modellen naar China, en deze apparatuur van een lagere generatie draagt ​​momenteel ongeveer een vijfde bij van ASML's verwachte omzet in 2026. Het wetsvoorstel is in april door belangrijke commissies aangenomen en de regering-Trump heeft nog geen formele verklaring over haar standpunt afgelegd.

Terwijl de Verenigde Staten doorgaan met het aanscherpen van de exportcontroles en intern veel potentiële ‘next-generation lithography technology’-bedrijven steunen, bevindt ASML zich in het middelpunt van het kruispunt van meerdere krachten: aan de ene kant is het een onvervangbare infrastructuurleverancier voor de mondiale high-end chip- en AI-industrieën, en elke aanpassing van zijn exportroutekaart zal gevolgen hebben voor de hele toeleveringsketen; aan de andere kant is het onderwerp van onderzoek en druk van de Amerikaanse regering, en moet het een delicaat evenwicht vinden tussen zakelijke belangen, alliantierelaties en beperkingen voor China. Wat betreft de vraag of de geruchten over een ‘EUV-lithografiemachine in China’ daadwerkelijk bestaan, kunnen we alleen maar afwachten of de Amerikaanse regering bereid is concreter bewijs te leveren en externe inspectie te accepteren.