In reactie op geruchten dat TSMC conservatief is en niet bereid is te investeren in lithografieapparatuur van de volgende generatie, weerlegde TSMC-voorzitter Wei Zhejia persoonlijk de geruchten tijdens een recente aandeelhoudersvergadering en zei dat hij een High-NA EUV-lithografiemachine heeft gekocht en er hard aan werkt om deze te ontwikkelen, maar vanwege kostenoverwegingen zal deze in dit stadium niet in massaproductie worden gebracht.De nieuwste High-NA EUV-lithografiemachine, ontwikkeld door ASML, heeft een eenheidsprijs van 380 miljoen tot 400 miljoen dollar, meer dan tweemaal de prijs van de huidige reguliere EUV-apparatuur.Wei Zhejia gaf toe dat de belangrijkste reden voor het niet produceren van massaproductie is dat de apparatuur te duur is.
De strategie van TSMC is om eerst goed gebruik te maken van de bestaande EUV-apparatuur. Wei Zhejia benadrukte dat bestaande lithografiemachines in combinatie met meerdere patroontechnologieën nog steeds voldoende zijn om de krimpvraag van geavanceerde processen te ondersteunen. TSMC heeft het vertrouwen om te wachten tot de economische rekeningen van High-NA EUV kosteneffectiever worden voordat actie wordt ondernomen.
TSMC ontving al in september 2024 zijn eerste High-NA EUV-lithografiemachine en plaatste deze in het R&D-centrum om basislithografietechnologie te ontwikkelen voor het proces van de volgende generatie.Wei Zhejia is van mening dat het vooraf starten van R&D-voorbereidingen een betrouwbare opbrengst en outputefficiëntie kan garanderen wanneer het in de toekomst in productie wordt genomen.
Hij gaf echter toe dat het een tijdje zou duren voordat dit apparaat van $400 miljoen daadwerkelijk in gebruik zou worden genomen. Concurrenten zoals Intel hebben High-NA EUV al op het schema voor massaproductie gezet, terwijl TSMC een betrouwbaardere route heeft gekozen om het eerst te ontwikkelen en vervolgens in productie te nemen, wat in overeenstemming is met de consistente kostendiscipline.
Wei Zhejia voorspelt dat High-NA EUV op natuurlijke wijze het productiesysteem zal betreden op het moment dat een enkele belichting echt nodig is om fijnere lijnbreedtes te bereiken en de waferkosten concurrerend worden.
